金相制樣中試樣磨拋工作的目的是去除變形層(深干擾層)露出真實樣品并達到光滑平整的觀測表面。 去除變形層后獲得平整光滑無劃痕的樣品表面叫做樣品拋光,通常使用拋光布盤+拋光液/膏/粉來實現(xiàn)。 |
拋光過程可以分為初拋和終拋兩個過程, 初拋會使用淺層強支撐織物來去除去薄或者預拋過程中產(chǎn)生的較深劃痕,獲取平整的樣品表面, 終拋會使用深層軟支撐來去除剩下的較淺的細微劃痕,達成完美光滑觀測面。 |
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預拋時底部由硬質磨盤支撐,金剛石懸浮液只能磨薄表面接觸損傷層并且會產(chǎn)生新的變形層(深干擾層) | 預拋時底部由軟質織物支撐,金剛石懸浮液在消除表面接觸損傷層和變形層時不會產(chǎn)生新的變形層(深干擾層) |
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